

Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd



företagsinformation

Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd [Shandong,China] Typ av verksamhet:Tillverkare huvudmarknader: afrika , Americas Exportör:21% - 30% certifikat:ISO9001, CCC Beskrivning:Halvledarrengöringsmedel,Rengöringsmedel,Karbonylfluorid halvledarmaterial,Kemisk specialgas,,

Språk

Home > Produkter > Halvledarelektroniska kemiska material > Halvledare/skivrengöringsmedel

PRODUKTKATEGORI

Halvledare/skivrengöringsmedel

 

Karbonylfluorid CF2O för etsning av kemikalier

JÄMFÖRPRIS: USD 500 / Gram

Min.Order	JÄMFÖRPRIS
100 Gram	USD 500 / Gram

Carbonyl Fluoride CAS: 353-50-4 CF2O Hight Purity för etsning av kemikalier Produkt introduktion Molekylvikten av karbonylfluorid (CF 2 O) är 66,01 och dess smältpunkt är -114 ℃, kokpunkten är -84 ℃. Karbonylfluorid är en slags mycket giftig och...

Skicka förfrågan Klicka för mer information

Kina Halvledare/skivrengöringsmedel Leverantörer

ZSEM producerar en mängd hög renhet fluorinnehållande elektroniska specialgaser och organiska lösningsmedel för att göra din chiptillverkning enklare. Betraktande skivrengöringsuppgift är en av de mest upprepade procedurerna som utförs när du tillverkar skivor. Med den ständigt föränderliga tekniken och enhetens krympande egenskap blir rengöringsprocesser komplicerade varje gång. Skivföroreningar sträcker sig från partiklar med ett diameterområde från 0,1 till 20 mikron, organiska och oorganiska föroreningar och föroreningar. Rengöring av skivor måste göras utan att införa några ytterligare föroreningar eller föroreningar på den slutliga ytan.

Halvledare/skivrengöringsmedel
ZSEM producerar en mängd hög renhet fluorinnehållande elektroniska specialgaser och organiska lösningsmedel för att göra din chiptillverkning enklare. Betraktande skivrengöringsuppgift är en av de mest upprepade procedurerna som utförs när du tillverkar skivor. Med den ständigt föränderliga tekniken och enhetens krympande egenskap blir rengöringsprocesser komplicerade varje gång. Skivföroreningar sträcker sig från partiklar med ett diameterområde från 0,1 till 20 mikron, organiska och oorganiska föroreningar och föroreningar. Rengöring av skivor måste göras utan att införa några ytterligare föroreningar eller föroreningar på den slutliga ytan.

Heta produkter

Nya produkter